Fogorvosi szemle, 2000 (93. évfolyam, 1-12. szám)

2000-03-01 / 3. szám

nek degradációját mtuatja. A folyamatot detektálható tömegveszteség nem kíséri, aminek valószínű oka a bemért szilánvegyület igen kis mennyisége.

A 3. ábra TG-görbéje alapján megállapítható, hogy anyagleadás három jól elkülöníthető fázisban játszódik le. Az első fázisban kb. 230 °C-ig viszonylag csekély mennyiségű anyag távozik a rendszerből (-0,9%), amely a rendszerben lévő, még szabad oldószertartalomra vezethető vissza. A következő jelentősebb anyagleadás 400 °C-ig (1,49%) a szilánvegyület degradációjára utal. A harmadik fázisban 400-600 °C-ig ugyancsak a szilánvegyület további leépülését mutatja (0,74%). A DTA-felvételeken három exoterm-csúcs jelentkezik 238 °C- on, 420 °C-on. Ugyanakkor 384 °C-on egy endoterm-csúcs is látható. A három exoterm-csúcs közül a 365 °C-on, valamint 420 °C-on a szilánról lehasadó szerves töredékmolekulák kiégése játszódik le. A 238 °C-on jelentkező exoterm-csúcs feltehetőleg színezőanyag oxidációjából adódhat, míg a 384 °C-on lévő endoterm-csúcs fázisátalakulásra utalhat.

A 4. ábrán, mely a nitrogénáramban végzett felmérést mutatja, a TG-görbén három fázisban lezajló anyagmennyiség-változás látható. Az első szakaszban 284 °C-ig egy kisebb mennyiségű anyagleadás zajlik, mely még a rendszerben lévő maradék oldószer távozásának köszönhető.

71

2. ábra. A Silicoup termoanalitikai görbéi oxigénáramban