183759. lajstromszámú szabadalom • Eljárás integrált áramköri minták fotolitográfiás kialakítására
(19) HU MAGYAR NÉPKÖZTÁRSASÁG SZABADALMI LEÍRÁS SZOLGÁLATI TALÁLMÁNY A bejelentés napja: (22) 81.12.23 (21 ) 3925/81 ORSZÁGOS TALÁLMÁNYI HIVATAL A közzététel napja: (41 ) (42) 83. 09. 28. Megjelent: (45) 86.09. 30. (11)183 759 Nemzetközi osztályjelzet: (51) NSZOa H 01 L 21/306: H 01 L 21/70 Szabadalmi Tár. '. Feltalálóik): (72) Szabadalmas: (73) B. VÁZSONYI Éva, vegyészmérnök, 50%, ANDRÁSI Andomé, vegy- MTA Központi Fizikai Kutató Intézete, Budapest ész, 20%, SZABÓ Imre, fizikus, 20%, SZENTIVÁNYI Istvánná, laboráns, 10%, Budapest (54) ,,ELJÁRÁS INTEGRÁLT ÁRAMKÖRI MINTÁK FOTOLITOGRÁFIÁS KIALAKÍTÁSÁRA” (57) KIVONAT A találmány tárgya eljárás áramköri minták fotolitográfiás kialakítására. Az eljárás során a fém vékonyréteg előkészítése után dehidratálunk, (eltávolítjuk a felületen kötött vizet), majd a felületre fényérzékeny lakkot viszünk fel. A lakk felvitele után hőkezelünk, majd maszkon keresztül exponálunk. Az exponálás után az ábrát előhívjuk és másodszor is hőkezeljük. Az ábra előhívása, vagy a második hőkezelés után a felületet oxigénplazmával kezeljük. Végül nedves kémiai módszerrel maratjuk az ábrát és eltávolítjuk a lakkréteget. A találmány szerinti eljárás lehetőséget nyújt arra, hogy kis geometriai méretű ábrákat nagy felületeken (nagy átmérőjű szeleteken) jó kihozatallal tudjuk kialakítani.
