163703. lajstromszámú szabadalom • Berendezés folyadékok egyenletes elosztására, előnyösen folyadékfilm képzésére
MAGYAR NÉPKÖZTÁRSASÁG ORSZÁGOS TALÁLMÁNYI HIVATAL SZABADALMI LEÍRÁS 163703 A bejelentés napja: 1971. VI. 09. (HE—591) Német Demokratikus Köztársaság-beli elsó'bbsége: 1970. VI. 11. (WP 12 g/148 075) Közzététel napja: 1972. VII. 28. Megjelent: 1975. V. 31. Nemzetközi osztályozás: B 05 c 11/02 Feltalálók: Dr. LŐTTEL Gerhard vegyészmérnök, Magdeburg, Dr. DRUBA Karl-Heinz vegyészmérnök, Schönebeck, GUTWASSER Helmut, Grossdeuben, FISCHER Gabriele, Leipzig, Német Demokratikus Köztársaság. Tulajdonos: VEB Chemieapparetebau, Piva, Német Demokratikus Köztársaság Berendezés folyadékok egyenletes elosztására, előnyösen, folyadékfilm képzésére l A találmány berendezés folyadékok egyenletes elosztására elemeken, anyag- és/vagy hó'csere céljából történő' gáz vagy gó'z egyidejű átvezetése mellett, amely elemek előnyösen csövek, lapok, lapkötegek stb., különösen rektifikátor számára. 5 Folyadékok egyenletes elosztására szolgáló ismert berendezéseknél mint kádaknál, vályúknál, viszonylag nagy folyadékterhelésre van szükség, hogy a viszonylag kevés elemen egyenletes elosztást lehessen elérni. Fúvókák, ütközőlapok, rotorok nagyobb 10 folyadéknyomást igényelnek, hibásodásra hajlamosak és ennek dacára csak megközelítően egyenletes elosztást biztosítanak. Ezen berendezés hátránya abban van, hogy a tetszés szerinti és mennyiségben erősen ingadozó fo- 15 lyadékot nem lehet egyenletesen külön-külön elemekre elosztani. Ez különösen akkor hátrányos, ha a készüléknél anyag- és/vagy hőcsere céljából egyenletes folyadékfilmre van szükség az egyes hővagy anyagcsere elemek felületén. 20 A találmány célja a fenti hiányosságok kiküszöbölése és olyan berendezés létesítése, amely alacsony anyagfelhasználás mellett költségtakarékos technológiával és egyszerű gyártással és szereléssel teljesen egyenletes, folyamatos elosztást biztosít még 25 gázoknak vagy gőzöknek egyidejű átvezetése mellett is, amelyeket az anyag és/vagy hőcsere céljából kell a folyadékfelületek mellett elvezetnik. Egyenletes elosztású, kis folyadékterhelésű filmre olyan eljárásoknál van szükség, melyeknél a folya- 30 dékot extraktiv, desztillatív, abszorbtív és deszorbtív, valamint termikus kezelésnek, ill. előkészítésnek vetik alá, különösen pedig hőcserélőkben, filmreaktorokban elgőzölögtetésre. Ezeknél az eljárásoknál van különösen szükség számos elemen egyenletesen elosztott folyadékfilmre. A vékony film által biztosítható a gazdaságos technológia. A találmány szerint ezt azáltal érjük el, hogy a feltorlasztott víz a folyadék számára gátként szolgáló minimális magasságú rész felett, amely egyidejűleg a gáz- vagy gőz vezetésére is szolgál, van átvezetve. Ennek érdekében egy többszörösen rétegzett szitaszövet gáz- vagy gőzvezető rendszerként és folyadékgátként szolgáló elemekig ér úgy, hogy egyik oldalukon a feltorlasztott folyadékba merül és azt kapilláris erővel az elem másik oldalára vezeti és az összes elemet folyadékkal ellátja és az elemek teljes felületén a folyadékot egyenletesen elosztja. A találmányt részletesen kiviteli példa kapcsán, a rajzok alapján ismertetjük. Az 1. ábra a találmány szerinti berendezés kiviteli példájának felülnézete, míg a 2. ábra az 1. ábra szerinti A—A vonal mentén vett metszet. Az ábrán látható 1 táblás gát szolgál az elosztandó folyadéknak a fröcskölés mentes egyenletes vezetésére az egyes 2 elemek felé, melyek az ábrán párhuzamos lapokként szerepelnek. A többszörösen rétegzett 3 szitaszövet, amely előnyösen fém kapil-163703 1
