162840. lajstromszámú szabadalom • Eljárás komplementer bipoláris tranzisztorokat tartalmazó integrált félvezetőelrendezés előállítására

MAGTAB NAPKÖZT ARSASAO ORSZÁGOS TALÁLMÁNYI HIVATAL SZABADAL LEÍRÁS I Bejelentés napja: 1970. VIII. 21. (MO—770) Német Demokratikus Köztársaság-beli elsőbbsége: 1969. VIII. 22. (WP 21 g/142 037) Közzététel napja: 1972. XI. 28. Megjelent: 1974. XII. 31. 162840 Nemzetközi osztályozás: H 01 1 19/00 Feltaláló: Jorke Günter mérnök, Dresden, Német Demokratikus Köztársaság Tulajdonos: Arbeitsstelle für Molekular­elektronik cég, Dresden, Német Demokratikus Köztársaság Eljárás komplementer bipoláris tranzisztorokat tartalmazó integrált félvezetőelrendezés előállítására 1 A találmány eljárás komplementer bipolar tranzisztorokat tartalmazó integrált félvezető­elrendezések előállítására, melyek különösen gyors működtetésű digitális kapcsolásokhoz és többrétegű félvezetőberendezésekhez alkalma­sak. Integrált félvezetőberendezéseknek bipolar tranzisztorokkal való előállítására ismeretesek 10 azok az eljárások, melyek többrétegű félvezető­elrendezések kialakítására alkalmasak. Ennek az eljárásnak folyamán tranzisztorokból és el­lenállásokból álló kapcsolásokba először gyűrű­alakú, nagyszennyezésű bázisrétegeket, ezzel 15 egyidejűleg pedig az ellenállások kontaktusait a fél vezetőtárcsába, illetve -rétegbe viszik be. Az epitaxiális rétegeknek a gyűrűalakú réteg által határolt tartományában lapos bázisrétege­ket alakítanak ki, melyek azonos szennyezési 20 típusúak és ezeket az ellenállástartományokba diffundáltatják. Ezután következik az emitter­tartományok diffúziója a bázisrétegeken belül, végül pedig a félvezetőtárcsának, illetve réteg­nek a hátsó oldalát annyira lepoktatják, hogy 25 a bázistartományon belül lévő kollektorok, — egyszersmind azonban valamennyi bázis és el­lenálláskontaktus szabaddá válik. Az így ki­alakított szerkezetet mindkét oldalon passzivál­ják, majd a fémes érintkezéseket alakítják ki. 30 Ez az eljárás lehetővé teszi azt, hogy olyan félvezetőelrendezéseket lehessen előállítani, amelyekben a szerkezeti elemek egymáshoz ké­pest igen szoros illesztéssel vannak elrendezve. Az integrációs' fok határait ezen eljárás mel­lett a hőelvezetés és a villamos vezetőképesség szabja meg. Az integrációs fok további emelése ezért megkívánja, hogy olyan kapcsolást alakítsunk ki, melynek kicsi a teljesítményvesztesége. Ez, továbbá a kapcsolási gyorsaság miatt támasz­tott követelmény akkor teljesül, ha komplemen­ter bipolar tranzisztoros kapcsolási elrendezést valósítunk meg. A találmány segítségével azt a célt kívánjuk elérni, hogy olyan eljárást dolgozzunk ki, mely alkalmas integrált félvezetőelrendezéseknek komplementer bipolar tranzisztorokkal való elő­állítására, és az eljárás már ismert és javasolt módszereket egyesít magában. A találmány révén az^ a feladatot kell meg­oldanunk, hogy önmagában ismert, vagy már korábban javasolt olyan gyártástechnológiai lé­péseket, vagy részeljárásokat foganatosítsunk, melyek együttesen integrált félvezetdelreridezé­seknek komplementer bipolar tranzisztorokkal való előállítására alkalmas, az így előállított elrendezésekkel különösen gyors kapcsolásokat lehessen végrehajtani, emellett pedig a tranzisz­torok előnyös kiviteli alakkal rendelkezzenek, 162940

Next

/
Oldalképek
Tartalom