137294. lajstromszámú szabadalom • Eljárás villamos kondenzátorok előállítására
Megjelent: 1962. szeptember 30. ORSZÁGOS TALÁLMÁNYI HIVATAL SZABADALMI LEÍRÁS 137.294. SZÁM ~ * , 21. g. 1—16. OSZTÁLY — D—5695. ALAPSZÁM Eljárás villamos kondenzátorok előállítására Dénes Péter oki. gépészmérnök, Budapest A bejelentés napja: 1942. október 15. Ismeretes már eljárás keramikus villamos kondenzátorok előállítására, amelynél a keramikus dielektrikumot vékony rétegben viszik fel a fémfegyverzetekre és a szinterizálás a fémfegyverzetekkel együtt történik. Ezen eljárás előnye, hogy a kerámiai anyag mechanikai tartását "a f éhiaüikatrészek veszik' át és a kerámiai réteg olyan vékonyra készíthető, amennyire az elektromos igénybevételek szabják meg. Ezen eljárással előállított kerámiai kondenzátorok egyrészt tekercs alakban ismeretesek, amikor is a fémszalagokra célszerűen jkataforetikusan felvitt kerámiai dielektrikumot először a fémszalagokkal együtt tekercselik, majd kályhában a fémszalagokkal együtt szinterizálják. Lehetnek ezen kondenzátorok sík lapokból összeállított testek is,1 amelyeknél a kondenzátor két fegyverzeitét ajkotp fémlapok közé célszerűen kataforetikusan felvitt réteg képezi a dielektrikumot, amelyet a két fémfegyverzettel együtt izzítunk fel szinterizálás céljából. Mindeme megoldásoknál az izzító-szinterizálás mindkét fémfegyverzet jelenlétében történik. A találmány értelmében a villamos kondenzátorokat oly módon állítjuk elő, hogy egyetlen fémlapot vagy egyetlen fémszalagot vonunk be kataforetikus vagy más alkalmas úton kerámiai dielektrikummal és az így nyert egységet (terméket) szinterizálás céljából izzítjuk. A másik fémfegyverzetet az izzítás után vékony fémréteg alakjában visszük fel. A másik fémfegyverzet felvitele pl. katódporlasztássél, snoppozással vagy más hasonló módon történhet. A találmány szerinti eljárás előnye, hogy a szintetizálásban csak egyetlen fémfegyverzet vesz részt és a zavaró körülmények ezáltal csökkennek, mindamellett ezen egyetlen fémfegyverzet is lehetővé teszi a kerámiai réteg tetszés szerinti kis méretben való elkészítését. -További előnye az eljárásnak, hogy úgy az összeszinterizált fém-kerámiai-réteg, mint a később felvitt második fémréteg (második fémfegyverzet) teljesen légzáróan oldható meg, amely a kondenzátorok elektromos sziigetelőképessége miatt fontos. Kerámiai réteg izzítása a fémfegyverzet oxidációjának megakadályozása céljából vákuumban vagy alacsony nyomású vagy légköri nyomású "-vagy semleges vagy redukáló gáz-atmoszférában történhet. A találmány szerinti eljárás változatánál a szinterizálás gyorsítása céljából az izzítás túlnyomásos, semleges vagy redukáló gáz-atmoszférában végezhető. A találmány szerinti eljárás további változatánál a kivezető dróttal előre ellátott fémlapot üres oldalán kataforetikus fürdőben vékony kerámiai réteggel vonjuk be, azt a fémlappal együtt szinterizáljuk, a kerámiai rétegre második fegyverzetként vékony fémtéteget viszünk fel oly módon, hogy a fémréteg méretei a "kerámiai rétegnél a külső átívelés elkerülése céljából mindenütt kisebbek, a fémréteget kivezetővel látjuk ei, majd védelem céljából alkalmas védőbevonattal borítjuk. Az átívelés kiküszöbölése céljából a találmány értelmében a kataforetikusan felvitt kerámiai réteget szinterizálás előtt a szélein vastagítjuk, ezt követőleg az alapfémlemezzel együtt szinterizál'• juk és a második fegyverzetet alkotó fémréteget a -terméknek nem vastagított kerámiai felületrészére felvisszük. A vastagítás pl. kenéssel vagy szórással, vagy más alkalmas módon történhet. Szabadalmi igénypontok: 1. Eljárás villamos kondenzátorok előállítására keramikus dielektrikummal, melyet ~áz jellemez, hogy a kerámiai szigetelőréteget a kerámiai alapanyag szinterizálási hőfokánál magasabb hőmérsékleten olvadó, a kondenzátor ^egyik fémfegyverzetét alkotó fémlapra vagy fémszalagra felvisszük, a kerámiai réteget ezzel a fémlappal vagy fémszalaggal együtt szinterizáljuk és az így nyert termékre a második fémfegyverzetet vékony fémréteg alakjában felvisszük. 2. Az 1. igénypont szerinti eljárás foganatosítási módja, melyet az jellemez, hogy a szinterizálást vákuumban vagy redukáló vagy semleges gázatmoszférában végezzük.